华为提出的“韬定律”有哪些亮点 重新定义技术进步指标[快讯]

华为今日发布了半导体“韬（τ）定律”概念。在2026国际电路与系统研讨会上，华为公司董事、半导体业务部总裁何庭波发表了题为《半导体新路径探索与实践》的主旨演讲，正式提出了这一新原则。这是中国在全球半导体领域首次提出指导产业发展的新原则。预计到2031年，基于该定律的高端芯片晶体管密度将达到1.4纳米制程的同等水平。

何庭波署名的论文《A Time Scaling Theory for Multi-Layer Electronic Systems》已提交至中国科学院科技论文预发布平台，详细介绍了“韬（τ）定律”。该定律是自登纳德缩放定律以来，首个在整个计算栈建立统一优化目标的缩放原理。它不再将晶体管面积作为技术进步的核心衡量指标，而是采用单一特征时间常数τ作为统一优化目标，覆盖从单个开关晶体管到数据中心工作负载、跨越十二个数量级的整个计算体系。

论文展示了两个量产级别的验证案例：在移动SoC方面，逻辑折叠技术在相同器件节点下实现了晶体管密度55%的阶跃式提升及41%的能效增益；在AI系统方面，具备内存语义统一总线架构、近封装 Hi-ONE光学I/O以及edge-to-surface 3D折叠技术共同构成的协同设计技术栈，预计到2035年将实现超过100倍的硬件集成度增长。

未来十年，逻辑折叠技术预计将从局部关键路径折叠演进为全面、多层级的折叠架构，在单个封装内集成三层、四层甚至更多有源层堆叠。这一演进将依赖于低温混合键合技术和TSV落点下移两大技术支撑。预计2026-2035年，晶体管密度将提升至接近或超过每平方毫米4亿个晶体管（400 MTr/mm²），并显著提升麒麟芯片CPU核心频率，为迈向4 GHz甚至更高频率铺平道路。